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    三氧化二硼硼硅片 型號:ZJ333-PWB2

    三氧化二硼硼硅片 型號:ZJ333-PWB2

    簡要描述:
    三氧化二硼硼硅片 型號:ZJ333-PWB2

    二 規格與參數
    (1)規格
    PWB1淡硼 PWB2濃硼
    特殊規格 Φ40*1.5mm 特殊規格 Φ40*2.5mm
    特殊規格 Φ45*1.5mm 特殊規格 Φ45*2.5mm
    2英寸 Φ50*1.5mm 2英寸 Φ50*2.5mm

    產品時間:2024-08-27

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    廠商性質:生產廠家

    生產地址:

    品牌其他品牌

    三氧化二硼硼硅片 型號:ZJ333-PWB2

    產品名稱:三氧化二硼硼硅片
    產品型號:PWB2
    產品規格:100*4mm
    微晶玻璃片狀擴散源
    使用說明書
    一 前言
    PWB-硼微晶玻璃片狀擴散源是一種的擴散源,它適用于半導體元器件和集成電路的硼擴散工藝,具有穩定性、均勻性,目前已被半導體行業應用。

    三氧化二硼硼硅片 型號:ZJ333-PWB2

    二 規格與參數
    (1)規格
    PWB1淡硼 PWB2濃硼
    特殊規格 Φ40*1.5mm 特殊規格 Φ40*2.5mm
    特殊規格 Φ45*1.5mm 特殊規格 Φ45*2.5mm
    2英寸 Φ50*1.5mm 2英寸 Φ50*2.5mm
    3英寸 Φ76.2*3mm 3英寸 Φ76.2*3mm
    4英寸 Φ100*4mm 4英寸 Φ100*4mm
    (2)參數
    PWB1淡硼 PWB2濃硼
    硼含量 B2O3≥43% B2O3≥45%
    膨脹系數 49*10-7+3*10-7/℃(20℃~400℃)
    擴散溫度 900℃~1050℃
    方塊電阻 RS≥30Ω/□ RS≥15Ω/□
    (根據其他條件不同,RS值可以有所差異)
    三 使用說明
    (一)源片清洗方法
    主要是去-除源片表面所沾染的雜質。有以下兩種方法:
    (1) A 用丙酮棉花擦洗表面后,在乙醇中漂洗2~3秒;
    B 用50℃~60℃的去離子水沖洗1~2分鐘;
    C 冷去離子水沖洗10~15分鐘;
    D 用紅外燈烘4~5小時。
    (2) A 用丙酮與乙醇棉花先后擦洗源片正反兩面及四周;
    B 用50℃~60℃的去離子水沖洗1~2分鐘;
    C 冷去離子水沖洗10~15分鐘;
    D 用紅外燈烘4~5小時。
    源片的清洗和烘干應連續進行,在紅外燈烘干的過程中,如源片出現發黑現象,說明有-機溶劑未沖洗干凈,烤源時通少量氧氣,即可除-去。
    經清洗和烘干以后的源片,即可放入石英管中隨爐升溫烤源。

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